集成电路工艺原理判断题每日一练(2017.08.08)

判断题
P是VA族元素，其掺杂形成的半导体是P型半导体。
答案：正确
判断题
CMP带来的一个显著的质量问题是表面微擦痕。小而难以发现的微擦痕导致淀积的金属中存在隐藏区，可能引起同一层金属之间的断路。
答案：正确
判断题
纯净的半导体是一种有用的半导体。
答案：错误
判断题
对正性光刻来说，剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图案的准确复制。
答案：正确
判断题
半导体级硅的纯度为99.9999999%。
答案：正确