A.选磨正中早接触时，主要选磨与早接触支持尖相对应的近远中边缘嵴和中央窝 B.选磨侧方干扰时，选磨非支持尖上的干扰点 C.选磨侧方干扰时，如为尖牙的干扰通常以选磨上尖牙为主 D.前伸不干扰时，如前牙接触而后牙不接触时，选磨以下前牙唇斜面为主 E.前伸不干扰时，如后牙接触而前牙不接触时，选磨上牙尖的远中斜面或下牙尖的近中斜面
A.0.5mm B.0.45～0.49mm C.0.35～0.44mm D.0.25～0.34mm E.＜0.2mm
A.消除早接触点 B.减少牙周组织所受的侧向力 C.降低临床牙冠长度 D.避免前牙因后牙推动而拥挤 E.减小深覆盖程度
A.皮肤 B.皮下组织 C.筋膜浅层 D.粘膜 E.骨膜
A.复面嵌体B.3/4冠C.烤瓷冠D.铸造全冠E.桩核冠
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早接触时，主要选磨与早接触支持尖相对应的近远中边缘嵴和中央窝