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集成电路制造工艺员(三级)单项选择题每日一练(2019.01.23)

  • 单项选择题

    电离气体与普通气体的不同之处在于:后者是由电中性的分子或原子组成的,前者则是()和中性粒子组成的集合体。

    A.离子
    B.原子团
    C.电子
    D.带电粒子

  • 单项选择题

    ()是通过把被蒸物体加热,利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。

    A.蒸镀
    B.溅射
    C.离子注入
    D.CVD

  • 单项选择题

    薄膜沉积的机构,依发生的顺序,可以分为这几个步骤。其中不包括()。

    A.形成晶核
    B.晶粒自旋
    C.晶粒凝结
    D.缝道填补

  • 单项选择题

    晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的()使得在刻蚀多晶硅电极时对它的刻蚀要尽可能的小。

    A.n型掺杂区
    B.P型掺杂区
    C.栅氧化层
    D.场氧化层

  • 单项选择题

    固体中的扩散模型主要有填隙机制和()。

    A.自扩散机制
    B.杂质扩散机制
    C.空位机制
    D.菲克扩散方程机制

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