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集成电路制造工艺员单项选择题每日一练(2019.01.25)

  • 单项选择题

    在集成电路工艺中,光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是()。

    A.刻蚀
    B.氧化
    C.淀积
    D.光刻

  • 单项选择题

    当二氧化硅膜很薄时,膜厚与时间()。

    A.t2成正比
    B.t2成反比
    C.t成正比
    D.t成反比

  • 单项选择题

    在半导体器件制造中,对清洗用水的纯度有比较高的要求,要用经过纯化的()作为清洁用水。

    A.蒸馏水
    B.自来水
    C.去离子水
    D.矿泉水

  • 单项选择题

    企业的战略一般由四个要素组成,即经营范围、资源配置、竞争优势以及协同合作,其中协同合作是指企业通过共同的努力达到()。

    A.分力之和大于简单相加的结果
    B.分力之和等于简单相加
    C.共享开发工具、共享信息
    D.共同分担着开发失败的风险

  • 单项选择题

    ()是测量在刻蚀过程中物质被移除的速率有多快的一种参数。

    A.刻蚀速率
    B.刻蚀深度
    C.移除速率
    D.刻蚀时间

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