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每日一练
章节练习
微电子学问答题每日一练(2019.03.22)
来源:考试资料网
1.问答题
21世纪硅微电子技术的主要发展方向有哪些?
参考答案:
特征尺寸继续等比例缩小;
集成电路(IC.将发展成为系统芯片(SOC));
微电子技...
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2.问答题
列举离子注人优于扩散的7点。
参考答案:
1.精确控制杂质含量。
2.很好的杂质均匀性。
3.对杂质穿透深度有很好的控制。
4.产生...
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3.问答题
层次化、结构化设计概念,集成电路设计域和设计层次。
参考答案:
分层分级设计和模块化设计
将一个复杂的集成电路系统的设计问题分解为复杂性较低的设计级别,这个级别可以再分解到复...
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4.问答题
解释透镜压缩是怎么发生的,它产生了什么问题?
参考答案:
透镜压缩是透镜材料结构上的重新排列导致透镜材料增密,压缩发生在透镜材料中,包括熔融石英它可以增加激光束穿过区域的透镜材料...
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5.问答题
刻蚀工艺的目的是什么,这个区中最常用的设备是什么?
参考答案:
目的:硅片上没有光刻胶保护的地方留下永久的图形。
常用设备:等离子刻蚀机,等离子体去胶机和湿法清洗设备。