A.负胶受显影液的影响比较小 B.正胶受显影液的影响比较小 C.正胶的曝光区将会膨胀变形 D.使用负胶可以得到更高的分辨率 E.负胶的曝光区将会膨胀变形
A.高分辨率 B.高灵敏度 C.精密的套刻对准 D.大尺寸 E.低缺陷
A.颗粒 B.金属 C.有机分子 D.静电释放（ESD） E.水
A.光学曝光 B.离子束曝光 C.接近式曝光 D.电子束曝光 E.投影式曝光
A.光刻胶 B.衬底 C.表面硅层 D.扩散区 E.源漏区
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