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章节练习
微电子学问答题每日一练(2019.05.09)
来源:考试资料网
1.问答题
列出逻辑模拟中的主要延迟模型,并给出简单说明。
参考答案:
元件的延迟模型和信号模型
元件的延迟模型:检查时序关系、反映竞争和冒险等现象;调用的门单元中已含有不同延迟模型...
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2.问答题
列举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点,干法刻蚀的不足之处是什么?
参考答案:
优点:
1.刻蚀剖面是各向异性,具有非常好的侧壁剖面控制
2.好的CD控制。
3.最小的光...
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3.问答题
DUV波长曝光时使用哪种透镜材料?
参考答案:
一种合适的透镜材料是熔融石英,他是深紫外波长范围内的较少的光吸收,氟化钙正在作为一种可能的候选透镜材料。
4.问答题
砷化镓相对于硅的主要缺点是什么?
参考答案:
主要缺点:缺乏天然氧化物;材料的脆性;成本比硅高10倍;有剧毒性在设备,工艺和废物清除设施中特别控制。
5.问答题
CMOS集成电路版图设计中,什么是有比例设计和无比例设计,对电学参数有哪些影响?
参考答案:
用电路分别实现二输入与非门:两个N管为串联,两个P管为并联;假设电路开关特性要求对称,即:上升时间Tr等于下降时间Tf,...
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