集成电路制造工艺员多项选择题每日一练(2019.08.13)

多项选择题
在半导体工艺中，与氮化硅比较，二氧化硅更适合应用在（）。
A.晶圆顶层的保护层
B.多层金属的介质层
C.多晶硅与金属之间的绝缘层
D.掺杂阻挡层
E.晶圆片上器件之间的隔离
多项选择题
溅射的方法非常多其中包括（）。
A.直流溅射
B.交流溅射
C.反应溅射
D.二级溅射
E.三级溅射
多项选择题
一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。
A.产生一个离子并导向靶
B.被轰击的原子向硅晶片运动
C.离子把靶上的原子轰出来
D.经过加速电场加速
E.原子在硅晶片表面凝结
多项选择题
离子注入的主要气体源中，易燃、易爆的有（）。
A.砷化氢
B.二硼化氢
C.三氟化硼
D.硅烷
E.氧气
多项选择题
电气测量技术的应用所以能在现代各种测量技术中占有重要的地位，是因为它具有很多优点，主要有：（）。
A.电气测量仪表的结构简单，使用方便
B.电气测量仪表有足够的准确度
C.电气测量仪表可以灵活地安装在需要进行测量的地方，并可实现自动记录
D.可以解决远距离的测量问题，为集中管理和控制提供了条件
E.能利用电气测量的方法对非电量（如温度、压力、速度、水位及机械变形等）进行测量