问答题

【简答题】什么是阱？CMOS工艺中阱的作用是什么？试说明CMOS双阱工艺中的阱是如何形成的？

答案：在硅衬底上形成的、掺杂类型或掺杂浓度与硅衬底不同的局部掺杂区域称为阱（well），包括：n阱、p阱和双阱（dual/tw...

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【简答题】试说明MOS工艺中存在的自对准结构及他们的主要优点。

答案：源漏的自对准注入（LDD）：在硅栅工艺中，利用多晶硅栅的掩蔽作用自对准地进行源漏区的杂质注入，并同时完成多晶硅栅的杂质注...