MOS器件按比例缩小后对器件特性有什么影响？

版图设计的基本前提是什么？

规定版图几何设计规则的意义是什么？

集成电路电阻可以通过（）产生。

把半导体级硅的多晶硅块，转换成一块大的单晶硅的过程，称作（）。生长后的单晶硅被称为（）。

硅半导体工艺中的绝缘材料主要来源于硅自身产生的（）材料等。

MOS场效应管（MOSFET）在20世纪70年代得到了广泛的接受，从那时起到现在一直是集成电路的主流晶体管。MOSFET有两类（）和（）。每种类型可由各自器件的多数载流子来区别。

图a中M1和M2为某CMOS工艺中的两个NMOS管，M1的W/L＝12μm/6μm，M2的W/L＝4μm/2μm，其它物理参数及偏置均相同。图b中给出了M1的漏极电流Id1随Vgs的变化曲线，请画出Id2的大致变化，并说明Id1和Id2有什么不同，并解释不同的主要原因。

由硅片生产的半导体产品，又被称为（）。

说明MOS器件噪声的来源、成因及减小方法。