多项选择题

离子注入的主要气体源中，易燃、易爆的有（）。

A.砷化氢
B.二硼化氢
C.三氟化硼
D.硅烷
E.氧气

你可能感兴趣的试题

多项选择题

半导体芯片生产中，离子注入主要是用来（）。

A.氧化
B.改变导电类型
C.涂层
D.改变材料性质
E.镀膜

单项选择题

硅烷的分子式是（）。

A.SiF₄
B.SiH₄
C.CH₄
D.SiC