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正光刻胶
答案:
曝光区域变软并最后被溶解。负胶则相反。
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光刻技术
答案:
图形化工艺中将设计好的图形从光刻板或背缩光刻板转印到晶圆表面的的光刻胶上使用的技术。
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问答题
【简答题】什么是驻波效应?如何减小驻波效应
答案:
驻波效应:当曝光的光纤从光刻胶与衬底的界面反射时,会与入射的曝光光线产生干涉,会使曝光过度和不足的区域形成条纹状结构。<...
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