单项选择题

在光学曝光中，由于掩膜版的位置不同，又分为接触式曝光，接近式曝光和（）。

A.投影式曝光
B.离子束曝光
C.电子束曝光
D.X射线曝光

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单项选择题

以下不是光刻系统的主要指标的是：（）。

A.分辨率
B.晶圆直径
C.对比度
D.焦深

单项选择题

体现集成电路工艺技术水平的关键技术指标是（）。

A.特征尺寸
B.器件数量
C.互连线长度
D.互连线层数