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问答题 缩写中文含义
APCVD
HDPCVD
LPCVD
PECVD
PVD
BJT
CD
CMOS
CMP
MIC
ILD
MBE
SOI
DUV
MOCVD
BSG
PSG
BPSG
RTP
RTA
IC
LOCOS
STI
LI
VLSI
CA
FIB
ARC
ASIC
RIE
FIB
EUV
LDD

参考答案： APCVD：常压化学气相淀积
HDPCVD：高密度等离子体化学气相淀积
LPCVD：低压化学气相淀积...

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特性：
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参考答案：离子注入，热扩散，硅浆料，丝网印刷，激光

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参考答案：

1.对下层栅氧化层具有高的选择比
2.非常好的均匀性和可重复性。
3.高度的各向异性