单项选择题

集成电路制造工艺中对刻蚀的要求包括：能得到想要的形状（斜面还是垂直图形）；过腐蚀最小（一般要求过腐蚀10％，以保证整片刻蚀完全）；（）；均匀性和重复性好；表面损伤小和清洁、经济、安全等。

A.各向同性好
B.刻蚀速率快
C.选择性好
D.各向异性好

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单项选择题

以下不是影响刻蚀质量的主要因素是：（）。

A.刻蚀温度
B.粘附性
C.刻蚀槽的高度
D.刻蚀时间

单项选择题

下列有关集成电路发展趋势的描述中，不正确的是（）。

A.时钟频率越来越高
B.晶圆尺寸越来越小
C.电源电压越来越低
D.特征尺寸越来越小