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干法刻蚀的各向异性腐蚀,湿法刻蚀是各向同性腐蚀。
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砷化镓的湿法刻蚀腐蚀液是磷酸。
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坚膜是为了挥发掉存留在光刻胶中的各种溶剂,从而提高光刻胶对晶圆表面的粘附性。
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