填空题

直流溅射只能沉积（）膜，而不能沉积（）膜，原因在于靶面的（）电荷无法中和。（）溅射可以克服直流溅射的局限，可以沉积任何固体薄膜，其使用的电源频率为（）MHz.

答案：金属；介质；离子；射频；13.56

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溅射镀膜时的本底真空度约为（）Pa，分子束外延镀膜的本底真空度约为（）Pa.

答案： 10^-3；10^-8

真空蒸镀薄膜的形成机理有（）、（）和（）。

答案：核生长型；单层生长型；混合生长型