问答题

【简答题】光刻胶正胶和负胶的区别是什么？

答案：正性光刻胶受光或紫外线照射后感光的部分发生光分解反应，可溶于显影液，未感光的部分显影后仍然留在晶圆的表面，它一般适合做长...

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【简答题】简述光刻工艺步骤。

答案：涂光刻胶，曝光，显影，腐蚀，去光刻胶。

【简答题】光刻的作用是什么？列举两种常用曝光方式。

答案：光刻是集成电路加工过程中的重要工序，作用是把掩模版上的图形转换成晶圆上的器件结构。
曝光方式：接触式和非接触式。