• 搜标题
  • 搜题干
  • 搜选项
0 / 200字
判断题

CVD常用于淀积介质薄膜。

答案： 正确
题目列表

你可能感兴趣的试题

判断题

VPE过程其实就是一种CVD的过程。
答案： 正确
判断题

CVD淀积二氧化硅的原理跟热氧化相同。
答案： 错误
微信扫码免费搜题