名词解释再分布
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A. 离子注入
B. 热扩散
10.单项选择题
二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些（）
①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数
②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系数
③二氧化硅的厚度大于杂质在二氧化硅中的扩散深度
④二氧化硅的厚度小于杂质在二氧化硅中的扩散深度
A.②④
B.①③
C.①④
D.②③
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金属化中可选用的金属材料有（）。
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