首页
题库
网课
在线模考
桌面端
登录
搜标题
搜题干
搜选项
0
/ 200字
搜索
问答题
【简答题】试画出CMOS双阱工艺中器件结构的剖面图并在其上标注出主要材料层的名称。
答案:
点击查看答案
在线练习
手机看题
你可能感兴趣的试题
问答题
【简答题】工艺最后生长在顶层的介质层称为什么?由什么材料构成?其主要作用是什么?
答案:
在集成电路制作好以后,为了防制外部杂质(如潮气、腐蚀性气体、灰尘等)侵入硅片,通常在硅片表面加上一层保护膜,称为钝化。<...
点击查看答案
手机看题
问答题
【简答题】试给出CMOS工艺操作的三种基本类型,并说明每种类型的主要作用及主要工艺。
答案:
薄膜制作(thin film/layer):形成不同材料构成的工艺层;
掺杂(doping):根据设...
点击查看答案
手机看题
微信扫码免费搜题