等离子体化学气相沉积的优点包括（ ）。 A. 反应温度低，对基片影响小 B. 形成的膜厚度及成分较均匀、膜层致密、不易产生裂纹 C. 较低的温度扩大了基片的可选择范围 D. 薄膜附着力要大于普通化学气相沉积所沉积的薄膜