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半导体芯片制造工半导体芯片制造中级工判断题每日一练(2020.02.11)
判断题
光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（）
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判断题
光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物质，这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶。（）
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正确
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判断题
表面钝化工艺是在半导体芯片表面复盖一层保护膜，使器件的表面与周围气氛隔离。（）
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判断题
可靠性筛选可以剔除早期失效的产品。（）
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判断题
设备、试剂、气瓶等所有物品不需经严格清洁处理，可直接进入净化区。（）
答案：
错误
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