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填空题
磁控溅射采用了（）电磁场，将（）运动束缚在靶面附近，提高了气体的（）效率，克服了电子使基片（）的缺点。
答案：
正交；电子；碰撞；过热
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填空题
直流溅射只能沉积（）膜，而不能沉积（）膜，原因在于靶面的（）电荷无法中和。（）溅射可以克服直流溅射的局限，可以沉积任何固体薄膜，其使用的电源频率为（）MHz.
答案：
金属；介质；离子；射频；13.56
