（）是光刻工艺最重要的耗材，是一种通过特定光源照射下发生局部溶解度变化的光敏...

单项选择题（）是光刻工艺最重要的耗材，是一种通过特定光源照射下发生局部溶解度变化的光敏材料。

A.光刻胶
B.抛光液
C.芯片
D.晶片

1.单项选择题光生伏特效应是由（）发现的。

A.法国科学家牛顿
B.英国科学家牛顿
C.英国科学家贝克雷尔
D.法国科学家贝克雷尔

2.单项选择题商业秘密保护与布图设计保护的关系是（）。

A.相互独立
B.后者能覆盖前者
C.前者可以覆盖后者
D.前者不能覆盖后者

3.单项选择题要提取高纯度的硅材料需要用到硅砂，它是一种二氧化硅含量高达（）%的特殊材料。

A.50
B.60
C.80
D.95

4.单项选择题（）年，我国研制出第一台光刻机——65型接触式光刻机，其技术仅次于美国、日本。

A.1980
B.1955
C.2000
D.1965

5.单项选择题目前，中国半导体设备国产化低于（），国内市场被国外巨头垄断。

A.20%
B.30%
C.40%
D.50%

6.单项选择题从细分产业上看，国内（）是集成电路行业中最具发展活力的领域。

A.集成电路制造业
B.封装业
C.集成电路设计业
D.芯片制造业

7.单项选择题第一代半导体材料主要为（）、锗等元素材料。

A.硅
B.砷化镓
C.磷化铟
D.碳化硅

8.单项选择题在全球芯片产业链上，我国处在（）。

A.上游
B.中上游
C.中下游
D.下游

9.单项选择题集成电路的开发、制造基本工艺有（）个。

A.5
B.6
C.7
D.8

10.单项选择题（）年，第一个电子管诞生。

A.1906
B.2006
C.1927
D.2007