填空题

为了降低注入离子对衬底由于热沉积产生的温升，在高剂量、大束流离子注入时，可以采用（）扫描方式，在低剂量、小束流时一般用（）方式注入。

答案：混合；全电扫描

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离子注入机的对Si衬底作P型掺杂的源气常用（），N型掺杂的源气常用（）和（）。对GaAs做N型掺杂的源气常用（）

答案： BF₃；PH₅；AsH₅；SiH₄

（）称为沟道效应，可以用（）、（）和（）来避免。其中，（）是最常用的方法。

答案：沿晶体沟道注入离子的射程远大于随机方向注入离子射程的现象；硅片相对注入束偏转5-7°的注入角；表面生长氧化层；硅注入表面...