因电场作用所产生的运动称为扩散运动。

试说明扩散工艺中常用的扩散掺杂方法，并说明当前实际工艺中使用的主要方法及理由。

明两步扩散法的基本思想，及其每一步工艺的主要特点和目的。

列出并解释替位杂质在硅中的三种主要扩散机制。

在PN 结形成过程中，空穴的扩散运动方向是从P 区到N 区。

理想二极管模型在直流电路分析中误差很大，因此不能使用。

若在直流电路中硅二极管导通，则其导通电压均可认为0.7V。

PN 结的单向导电性与外加电压频率无关。

淀积扩散主要受哪些因素的控制？

二极管交流等效电路参数与其静态参数无关。