名词解释

Opc光学临界校正

答案：补偿当图形尺寸和曝光光线尺寸临近时所产生的衍射效应。

你可能感兴趣的试题

PSM移相掩膜

答案：相移掩膜上的电介质层在光刻版上开口部分以间隔的方式形成相移图形，通过没有相移涂敷开口部分的光线，会与通过有相移涂敷开口的...

正光刻胶

答案：曝光区域变软并最后被溶解。负胶则相反。