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【简答题】解释有限表面源扩散,列出有限表面源扩散的三种主要工艺参数,并说明其含义和主要影响因素。
答案:
扩散前先在硅片表面淀积一定数量的杂质,然后在整个扩散过程中将这层杂质作为扩散的杂质源,不再有新源补充,这种扩散方式称为有...
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答案:
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