集成电路制造工艺员（三级）单项选择题每日一练(2019.01.15)

来源：考试资料网
1 单晶硅刻蚀一般采用（）做掩蔽层，以氟化氢为主要的刻蚀剂，氧气为侧壁钝化作用的媒介物。

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2 请在下列选项中选出多晶硅化金属的英文简称：（）。

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3 检验水中是否有盐酸，可用（）溶液滴入水中，如果出现白色沉淀，就表示水中有盐酸。

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4 请在下列选项中选出硅化金属的英文简称：（）。

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5 对于浓度覆盖很宽的杂质原子，可以采用（）方法引入到硅片中。

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