微电子学填空题每日一练(2019.12.02)

填空题
光刻工艺的分辨率决定于：（）和曝光、显影、刻蚀条件的正确控制。正胶的分辨率（）于负胶的分辨率；光刻胶越薄，分辨率越（）。
答案：光刻机的分辨率、光刻胶的种类、光刻胶的厚度、光刻胶的对比度；高；高
填空题
光学光刻机主要有（）等几种。非光学光刻机主要有（）。
答案：接触式、接近式、投影式和分步重复光刻机；电子束光刻机和X射线光刻机
填空题
（）集成电路已成为集成电路的主流。
答案：CMOS
填空题
扩散分布的主要测量方法有：（）。
答案：四探针测电阻率、扩展电阻测载流子分布、霍尔效应测电阻率、染色法测结深、二次离子质谱测杂质分布、卢瑟福背散射测重杂质分布
填空题
根据不同的击穿机理，PN结击穿主要分为（）和隧道击穿这两种电击穿。
答案：雪崩击穿