扩散和离子注入
整形处理,切片,磨片和倒角,刻蚀,抛光,清洗,硅片评估,包装。
净化间的舞厅式布局为大的制造间具有10000级的级别,层流工作台则提供一个100级的生产环境。
光刻就是将掩膜版(光刻版)上的几何图形转移到覆盖在半导体衬底表面的对光辐照敏感的薄膜材料(光刻胶)上去的工艺过程。