1.反应产物是挥发性的; 2.选择比率高; 3.刻蚀速率快; 4.具有好的终点灵敏性; 5.有好的各向异性刻蚀速率。
最新试题
进行光刻工艺前的清洗步骤是()。
进行沟槽填充常用的金属材料是()。
新的平坦化方法有哪几个?()
注入损伤与注入离子的以下哪个参数无关?()
鸟嘴效应造成的不良影响有()。
碳纳米管场效应晶体管是未来晶体管发展趋势之一。
厚膜电阻的成分,一是导体颗粒,二是()。
常压的硅外延方法有()。
光刻工艺对准误差包括()。
光刻工艺的设备核心是()。