填空题

淀积膜的过程有三个不同的阶段。第一步是（），第二步是（），第三步是（）。

答案：晶核形成；聚焦成束；汇聚成膜

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目前常用的CVD系统有（）、（）和（）。

答案： APCVD；LPCVD；PECVD

立式炉的工艺腔或炉管是对硅片加热的场所，它由垂直的（）、（）和（）组成。

答案：石英工艺腔；加热器；石英舟