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图a中M1和M2为某CMOS工艺中的两个NMOS管,M1的W/L=12μm/6μm,M2的W/L=4μm/2μm,其它物理参数及偏置均相同。图b中给出了M1的漏极电流Id1随Vgs的变化曲线,请画出Id2的大致变化,并说明Id1和Id2有什么不同,并解释不同的主要原因。
题型:问答题
BiCMOS技术就是将()和()的优良性能集中在同一块集成电路器件中。BiCMOS综告了CMOS结构的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件结构的高电流驱动能力。
题型:多项选择题
集成电路电阻可以通过()产生。
题型:多项选择题
根据图,给出M2管的漏极电流表达式。
题型:问答题
版图DRC、ERC和LVS的意义是什么?
题型:问答题
材料根据流经材电流的不同可分为三类()。
题型:多项选择题
从设计的观点出发,版图设计规则应包括哪些部分?
题型:问答题
试用电导率为102/(Ω·cm),厚1μm的材料设计1kΩ的电阻,设电阻宽1μm,求其长。
题型:问答题
目前集成电路版图设计的主流工具有哪些?
题型:问答题
由于衬底材料的缘故会自动产生电容,这种电容称为()。
题型:单项选择题