规定版图几何设计规则的意义是什么？

比较砷化镓和磷化铟等衬底与硅衬底上的电感等效电路，试分析两者存在差异的原因。

MOS器件按比例缩小后对器件特性有什么影响？

图a中M1和M2为某CMOS工艺中的两个NMOS管，M1的W/L＝12μm/6μm，M2的W/L＝4μm/2μm，其它物理参数及偏置均相同。图b中给出了M1的漏极电流Id1随Vgs的变化曲线，请画出Id2的大致变化，并说明Id1和Id2有什么不同，并解释不同的主要原因。

什么是电阻率？它的单位是什么（国际标准单位制）？

硅半导体工艺中的绝缘材料主要来源于硅自身产生的（）材料等。

BiCMOS技术就是将（）和（）的优良性能集中在同一块集成电路器件中。BiCMOS综告了CMOS结构的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件结构的高电流驱动能力。

20世纪上半叶对半导体产业量展做出贡献的4种不同产业主要是（）。

版图设计的基本前提是什么？

晶体管的名字取自于（）和（）两词。