最新试题
MOS晶体管的源区、漏区及源、漏之间的沟道区域通常称为()。
题型:单项选择题
CMOS工艺中,将PMOS和NMOS的栅进行局部互连的材料是()。
题型:单项选择题
未进行掺杂的二氧化硅薄膜,通常简写为()。
题型:单项选择题
电源线和地线一般用什么图层来画?()
题型:单项选择题
集成电路再分析软件其处理的主要对象是()。
题型:单项选择题
反相器的版图一般用到几个pitch?()
题型:单项选择题
用四端器件绘制电路图时,NMOS管和PMOS管的衬底连接正确的是()。
题型:单项选择题
光刻时,将掩模版直接放在晶圆表面,与表面的光刻胶接触,该种光刻方式称为()。
题型:单项选择题
CMOS制作时,常常用作钝化层的材料是()。
题型:多项选择题
集成电路版图物理验证必须要做的步骤主要有哪些?()
题型:多项选择题