化学气相沉积乃是通过化学反应的方式，利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源，在反应器内使气态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。

简述真空蒸镀的原理。

涡流扩散是在有浓度差异条件下，物质通过涡流流体的传递过程。

化学合成反应沉积是由两种或两种以上的反应原料气在沉积反应器中相互作用合成得到所需要的无机薄膜或其它材料形式的方法。

在电离真空计中，电子在飞行路途中产生的正离子数，正比于气体密度n，在一定温度下正比于气体的压力p。因此，可根据离子电流的大小指示真空度。

简述玻璃真空系统漏气的原因及防漏措施。

界面张力的大小反映界面热力学的稳定性。

温度的高低不必用数字来说明，温标是温度的数值表示方法。

CVD 工艺希望反应气体以湍流的形式流动。

吸附质从流体主体通过分子与对流扩散穿过薄膜或边界层传递到吸附剂的外表面，称之为外扩散过程。