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集成电路技术判断题每日一练(2020.01.10)
判断题
离子注入是唯一能够精确控制掺杂的手段。
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判断题
LPCVD紧随PECVD的发展而发展。由660℃降为450℃,采用增强的等离子体,增加淀积能量,即低压和低温。
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判断题
集成电路是由Kilby和Noyce两人于1959年分别发明,并共享集成电路的专利。
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判断题
快速热处理是一种小型的快速加热系统,带有辐射热和冷却源,通常一次处理一片硅片。
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判断题
SiO2作为扩散掩蔽膜需要满足一定的厚度要求。
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