双极集成电路工艺中的七次光刻和四次扩散分别指什么？ _考试资料网

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问答题双极集成电路工艺中的七次光刻和四次扩散分别指什么？

参考答案： 七次光刻：N+隐埋层扩散孔光刻； P+隔离扩散孔光刻；P型基区扩散孔光刻；N+发射区扩散孔光刻；引线接触孔光刻...

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