判断题步进光刻机的三个基本目标是对准聚焦、曝光和合格产量。
您可能感兴趣的试卷
你可能感兴趣的试题
最新试题
为提高CMOS集成电路的抗自锁能力,可在版图设计上采取哪些措施?
题型:问答题
集成电路电阻可以通过()产生。
题型:多项选择题
目前集成电路版图设计的主流工具有哪些?
题型:问答题
什么是无源电阻?什么是有源电阻?举例说明。
题型:问答题
从天然硅中获得达到生产半导体器件所需纯度的SGS要经过()等步骤。
题型:多项选择题
半导体工艺技术中,器件互连材料通常包括()等。
题型:多项选择题
图a中M1和M2为某CMOS工艺中的两个NMOS管,M1的W/L=12μm/6μm,M2的W/L=4μm/2μm,其它物理参数及偏置均相同。图b中给出了M1的漏极电流Id1随Vgs的变化曲线,请画出Id2的大致变化,并说明Id1和Id2有什么不同,并解释不同的主要原因。
题型:问答题
试述两种传输线电感,比较其优缺点。
题型:问答题
设计一个CMOS差分放大器电路,写出其对应的SPICE描述语句并作差模电流-电压特性分析。
题型:问答题
由硅片生产的半导体产品,又被称为()。
题型:多项选择题