多项选择题MOS场效应管(MOSFET)在20世纪70年代得到了广泛的接受,从那时起到现在一直是集成电路的主流晶体管。MOSFET有两类()和()。每种类型可由各自器件的多数载流子来区别。
A.nMOS(n沟道)
B.pMOS(p沟道)
C.mMOS(m沟道)
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1.单项选择题由于衬底材料的缘故会自动产生电容,这种电容称为()。
A.寄生电容
B.共生电容
C.储存电容
2.多项选择题集成电路电阻可以通过()产生。
A.金属膜
B.掺杂的多晶硅
C.通过杂质扩散到衬底的特定区域中
3.多项选择题半导体工艺技术中,器件互连材料通常包括()等。
A.金属
B.合金
C.多晶硅
D.金属硅化物
4.多项选择题硅半导体工艺中的绝缘材料主要来源于硅自身产生的()材料等。
A.SiO2
B.SiON
C.Si3N4
5.多项选择题材料根据流经材电流的不同可分为三类()。
A.导体
B.绝缘体
C.半导体
6.多项选择题20世纪上半叶对半导体产业量展做出贡献的4种不同产业主要是()。
A.真空管电子学
B.无线电通信
C.机械制表机
D.固体物理
7.多项选择题晶体管的名字取自于()和()两词。
A.跨导
B.变阻器
C.导体
8.多项选择题由硅片生产的半导体产品,又被称为()。
A.微芯片
B.芯片
C.硅片
最新试题
在晶体材料中,对于长程有序的原子模式最基本的实体就是()。
题型:单项选择题
根据图,给出M2管的漏极电流表达式。
题型:问答题
硅半导体工艺中的绝缘材料主要来源于硅自身产生的()材料等。
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由于衬底材料的缘故会自动产生电容,这种电容称为()。
题型:单项选择题
在图中,若所有的晶体管都工作在饱和区,画出Vx从一个大的正值下降时Ix的草图。
题型:问答题
BiCMOS技术就是将()和()的优良性能集中在同一块集成电路器件中。BiCMOS综告了CMOS结构的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件结构的高电流驱动能力。
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把半导体级硅的多晶硅块,转换成一块大的单晶硅的过程,称作()。生长后的单晶硅被称为()。
题型:单项选择题
什么是MOS器件的体效应?
题型:问答题
什么是电阻率?它的单位是什么(国际标准单位制)?
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试用电导率为102/(Ω·cm),厚1μm的材料设计1kΩ的电阻,设电阻宽1μm,求其长。
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