最新试题
一个四输入的或非门,一般采用几个pitch?()
题型:单项选择题
MOS结构指的是金属氧化物半导体结构的简称。
题型:判断题
源漏注入之后,必须进行()工艺,修复晶格损伤,激活杂质。
题型:单项选择题
用四端器件绘制电路图时,NMOS管和PMOS管的衬底连接正确的是()。
题型:单项选择题
MOS管版图一般匹配原则有()。
题型:多项选择题
集成电路的制造工艺,需要采用隔离技术,常见的隔离方法有()。
题型:多项选择题
以下工艺中,方块电阻是一个重要的参数,一般用于衡量()工艺中杂质情况。
题型:单项选择题
MOS晶体管的源区、漏区及源、漏之间的沟道区域通常称为()。
题型:单项选择题
光刻时,将掩模版直接放在晶圆表面,与表面的光刻胶接触,该种光刻方式称为()。
题型:单项选择题
光刻时,必须将硅片与掩模版进行对准,不同的掩模版之间也要对准,可以采用仔细观察的方法。
题型:判断题