简述有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域。_考试资料网

网站首页考试题库模拟考场智能家居网课试题

大学试题

题库首页每日一练章节练习

问答题简述有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域。

参考答案：

光刻区，刻蚀区和离子注入区

您可能感兴趣的试卷

你可能感兴趣的试题

1.问答题列出芯片厂中6个不同的生产区域并对每一个区域做简单的描述。

参考答案：扩散：扩散区一般认为是进行高温工艺及薄膜沉积的区域。
刻：使用黄色莹光管照明使得光刻区与芯片厂中的其他各个区明...

点击查看完整答案

2.问答题什么是等离子体，为什么要在等离子体中使用RF能量？

参考答案：等离子是一种中性，高能量，离子化的气体，包含中性原子或分子，带电离子和自由电子。
RF能量的使用可以产生一个高...

点击查看完整答案

3.问答题什么是外延层，为什么在硅片上使用它？

参考答案：在某种情况下，需要硅片有非常纯的与衬底有相同晶体结构的硅表面，还要保持对杂质类型和浓度的控制，这要通过在硅表面沉积一个外...

点击查看完整答案

4.问答题列举硅片的七种质量要求。

参考答案：物理尺寸；平整度；微粗糙度；氧含量；晶体缺陷；颗粒；体电阻率

5.问答题定义晶体生长，什么是CZ单晶生长法？

参考答案：晶体生长：是把半导体级硅的多晶硅块转换成一块大的单晶硅。
CZ单晶生长法：是熔化了的半导体级硅液体变为有正确晶...

点击查看完整答案

6.问答题MOS器件中用的最多的是哪种方向晶向，双极型用的最多的是哪几种？

参考答案：

M.OS ：（100）面的硅片
双极型：（111）面的硅片

7.问答题为什么要用单晶进行硅片制造？

参考答案：半导体芯片加工需要纯净的单晶硅结构，这是因为单胞重复的单晶结构能够提供制作工艺和器件特性所需要的电学和机械性质。糟糕的晶...

点击查看完整答案

8.问答题解释增强型晶体管和耗尽型晶体管使用情况的区别。

参考答案：增强型和耗尽型场效应晶体管，总的来说，场效应晶体管可区分为耗尽型和增强型两种。耗尽型场效应晶体管(D-FET)就是在0栅...

点击查看完整答案

9.问答题数模转换器芯片能用做什么，模数转换器芯片能用做什么？

参考答案：

数/模转换器芯片可用来提供用做电子机械设备的控制模拟驱动信号。
模/数转换器芯片可用来测量模拟驱动信号的输出。

10.问答题BiCMOS使用了哪两种集成电路技术？

参考答案：采用了CMOS和双极技术。