判断题MOS管是一种电流型半导体器件,BJT是一种电压型半导体器件。
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4.判断题AFM通常用来观测样品表面形貌。
6.判断题通常利用TEM观测的分辨率高于SEM。
7.单项选择题光刻技术中的反刻工艺,通常应用于()的情况。
A.对光刻精度较高
B.光刻图案密度较高
C.光刻的材料易于腐蚀
D.光刻的材料难以腐蚀
8.单项选择题在CMOS工艺中,最为昂贵的步骤是:()
A.腐蚀
B.离子注入
C.光刻
D.CVD
10.判断题MBE只能用于III-V族化合物的生长。