判断题光电探测器的灵敏度主要取决于其禁带宽度大小。
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3.判断题AFM通常用来观测样品表面形貌。
5.判断题通常利用TEM观测的分辨率高于SEM。
6.单项选择题光刻技术中的反刻工艺,通常应用于()的情况。
A.对光刻精度较高
B.光刻图案密度较高
C.光刻的材料易于腐蚀
D.光刻的材料难以腐蚀
7.单项选择题在CMOS工艺中,最为昂贵的步骤是:()
A.腐蚀
B.离子注入
C.光刻
D.CVD
9.判断题MBE只能用于III-V族化合物的生长。
10.名词解释等离子体