单项选择题一般说的14nm工艺线指的是MOSFET中的()达到了14nm量级
A.栅极长度
B.漏极宽度
C.栅极宽度
D.以上都不是
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7.判断题AFM通常用来观测样品表面形貌。
9.判断题通常利用TEM观测的分辨率高于SEM。
10.单项选择题光刻技术中的反刻工艺,通常应用于()的情况。
A.对光刻精度较高
B.光刻图案密度较高
C.光刻的材料易于腐蚀
D.光刻的材料难以腐蚀