判断题所谓n沟道MOS管指的是它的基底是n型半导体。
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5.判断题AFM通常用来观测样品表面形貌。
7.判断题通常利用TEM观测的分辨率高于SEM。
8.单项选择题光刻技术中的反刻工艺,通常应用于()的情况。
A.对光刻精度较高
B.光刻图案密度较高
C.光刻的材料易于腐蚀
D.光刻的材料难以腐蚀
9.单项选择题在CMOS工艺中,最为昂贵的步骤是:()
A.腐蚀
B.离子注入
C.光刻
D.CVD
10.判断题提高光刻最小线宽可以通过提升介质的介电常数实现。