A、抗氯离子渗透性能
B、劈裂抗拉性能
C、抗碳化性能
D、早期抗裂性能
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A、因素分析法
B、统计法
C、加权比例法
D、非统计法
A、强度等级相同
B、强度试验龄期相同
C、砼生产工艺条件基本相同
D、砼配合比基本相同
A、同一工程、同一配比、采用同一批次水泥和外加剂的砼的凝结时间应至少检验1次
B、同一工程、同一配比的砼的氯离子含量应至少检验1次
C、同一工程、同一配比、采用同一批次海砂的砼的氯离子含量应至少检验1次
D、砼坍落度的取样检验频率与砼强度检验相同
A、不同批次或非连续供应的不足一个检验批量的砼原材料应作为一个检验批
B、来源稳定且连续三次检验合格的砼原材料可将检验批量扩大一倍
C、散装水泥应按每500吨为一个检验批
D、同一厂家的同批出厂,用于同时施工且属于同一工程项目的多个单位工程的砼原材料可将检验批量扩大一倍
A、砼强度达到设计强度等级的50%时,方可撤除养护措施
B、砼受冻前的强度不得低于5MPa
C、日均气温低于5℃时,不得采用浇水自然养护
D、模板和保温层应在砼冷却到5℃方可拆除
A、表面与外界温差不宜大于20℃
B、养护过程应进行温度控制
C、砼内部和表面温差不宜大于25℃
D、大体积砼养护应分为静停、升温、恒温和降温四个养护阶段
A、当表面与外界温差不大于20℃时,构件方可出池或撤除养护措施
B、降温速度不宜超过20℃/h
C、静停时间不宜少于24h
D、采用蒸汽养护时,应分为静停、升温、恒温和降温四个养护阶段
A、带模蓄热养护
B、隧道窑蒸热养护
C、养护坑湿热养护
D、蒸压釜蒸热养护
A、浇水湿润养护
B、隧道窑蒸热养护
C、冬季蓄热养护
D、喷涂养护剂养护
A、拆模试件
B、张拉试件
C、合格评定试件
D、吊装试件
最新试题
用能量()禁带宽度的光子照射p-n结会产生光生伏特效应。
CZ法的主要流程工艺顺序正确的是()
属于晶体缺陷中面缺陷的是()
只涉及到大约一个原子大小范围的晶格缺陷是()。
改良西门子法的显著特点不包括()
对于同时存在一种施主杂质和一种受主杂质的均匀掺杂的非简并半导体,在温度足够高、ni>>/ND-NA/时,半导体具有()半导体的导电特性。
下列选项中,对从石英到单晶硅的工艺流程是()
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如果杂质既有施主的作用又有受主的作用,则这种杂质称为()。
与半导体相比较,绝缘体的价带电子激发到导带所需的能量()