单项选择题只涉及到大约一个原子大小范围的晶格缺陷是()。
A.线缺陷
B.面缺陷
C.点缺陷
D.体缺陷
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1.单项选择题对于大注入下的直接复合,非平衡载流子的寿命不再是个常数,它与()。
A.非平衡载流子浓度成正比;
B.平衡载流子浓度成正比;
C.非平衡载流子浓度成反比;
D.平衡载流子浓度成反比。
2.单项选择题在通常情况下,GaN呈()型结构。
A.纤锌矿型;
B.闪锌矿型;
C.六方对称性;
D.立方对称性
3.单项选择题如果杂质既有施主的作用又有受主的作用,则这种杂质称为()。
A.施主
B.受主
C.复合中心
D.两性杂质
4.单项选择题杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是()
A.变大,变小
B.变小,变大
C.变小,变小
D.变大,变大
5.单项选择题如在半导体的禁带中有一个深杂质能级位于禁带中央,则它对电子的俘获率()空穴的俘获率。
A.大于
B.等于
C.小于
D.有效的复合中心
6.单项选择题与半导体相比较,绝缘体的价带电子激发到导带所需的能量()
A、比半导体的大
B、比半导体的小
C、与半导体的相等
7.单项选择题表面态中性能级位于费米能级以上时,该表面态为();
A、施主态
B、受主态
C、电中性
8.单项选择题最有效的复合中心能级位置在Ei附近;最有利陷阱作用的能级位置在()附近,常见的是少子陷阱。
A、EA,
B、ED,
C、EF,
D、Ei
9.单项选择题载流子的扩散运动产生扩散电流,漂移运动产生()电流。
A、漂移
B、隧道
C、扩散
10.单项选择题把磷化镓在氮气氛中退火,会有氮取代部分的磷,这会在磷化镓中出现()。
A.改变禁带宽度;
B.产生复合中心;
C.产生空穴陷阱;
D.产生等电子陷阱。
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下列选项中,对从石英到单晶硅的工艺流程是()
题型:单项选择题
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对于同时存在一种施主杂质和一种受主杂质的均匀掺杂的非简并半导体,在温度足够高、ni>>/ND-NA/时,半导体具有()半导体的导电特性。
题型:单项选择题